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匀胶烤胶机

型号MODEL: CB-1B

该产品用途可在光刻工艺中的涂胶后的软烘，暴光后烘，显影后的坚膜，磨片粘片熔腊等。它采用整体铸造，加热板作为加热体，增强了设备的安全性。采用单片机作为控制核心部件，提高了控温精度（±1℃）。该设备对一些温度敏感材料（如晶体、半导体、陶瓷等）进行加热和装卡尤为适用。该设备结构简单，操作简便，安全可靠，是从事材料研究生产必不可少的工具。

性能指标：

1、转速和时间特点是调速范围：300-8000转／分

   匀胶时间：1-3600秒

2、LED数字显示，转速稳定度：±1％，胶的均匀性：±3％。

3、电源电压：220V／50Hz

4、电机功率：90W

5、适用：Φ5-Φ100mm硅片及其它材料等匀胶。

   真空泵抽气速率≥60升／分

6、仪器尺寸：210×220×160mm

7、转速调节形式，采用变频电源控制器调节

8、烘胶板规格，ø200mm

9、烘烤温度，≤200℃

10、整体台面560×360×250mm

供应商：作为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将匀胶机、光刻机商品化的公司，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。