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随着光电子产业的迅猛发展，光清洗灯在清洗光电产品中是必不可少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。目前国外广泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗，它一方面能避免由于使用有机溶剂造成的污染，同时能够将清洗过程缩短。一、紫外光清洗的工作原理： 光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。 更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子。 空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭...