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一、真空气氛管式炉概述

真空气氛管式炉额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

二、真空气氛管式炉特点

1、控制精度：±1℃    炉温均匀度：±1℃(根据加热室大小而定) 。

2、操作方便，可编程，PID自整定、自动升温、自动保温、 自动降温，无需值守；可另配与计算机通讯通过计算机操作电炉（启动电炉、停止电炉、暂停升温、设定升温曲线、升温曲线储存、历史曲线等），软件免费详见：计算机控制系统。

3、炉管采用刚玉99陶瓷管。

4、不锈钢KF金属法兰密封（双胶圈） 

5、炉体温度接近室温

6、双回路保护

7、进口耐火材料，保温性能好，耐温高

8、真空度 -0.1Mpa

9、可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等）

三、真空气氛管式炉参数

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询。