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北京华林伟业电镀器材有限公司
此设备可完成晶片由花篮至花篮的自动倒片功能。操作简便,工作可靠稳定,其主要规格及参数
指标如下:
1.工作环境:温度<80℃,湿度<72%,净化级别<20000级.
2. 适用硅片:2~8寸片.