H4膜料的特性
成分
钛镧混合物
外观
1-4mm的黑色颗料
密度
5.9g/cm3
熔化温度
1800℃
沉积温度
2200～2300℃
沉积源
电子束
坩埚
铜或钼
氧气压力
0.8-2×10-4
沉积速率
0.2-0.8nm/秒
基片温度
大约30-300℃
H4膜层特性
大约30℃ 300℃
50nm的折射率
1.99 2.12
400nm折射
＜2×10-4
吸收边缘
300nm
吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。
折射率的散布
散布公式
大约30℃
n=1.887+25410/波长2
100℃
n=1.982+29820/波长2
300℃
n=2.009+28880/波长2